[发明专利]一种超疏油微柱阵列表面织构的制备方法在审

专利信息
申请号: 201510714921.9 申请日: 2015-10-29
公开(公告)号: CN105220185A 公开(公告)日: 2016-01-06
发明(设计)人: 郭钟宁;江树镇;邓宇;张瑞麟;刘桂贤 申请(专利权)人: 广东工业大学
主分类号: C25D1/00 分类号: C25D1/00
代理公司: 广州市南锋专利事务所有限公司 44228 代理人: 刘媖;梁华行
地址: 510090 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种超疏油微柱阵列表面织构的制备方法,其包括以下步骤:S1、对金属基底进行清洁和烘干;S2、光刻胶匀胶、前烘预固化;S3、光刻胶曝光,将具有特定镂空图案的掩膜板置于光刻胶上方,复制掩膜板图案到光刻胶;S4、光刻胶的显影和后烘,使光刻胶上产生微孔阵列;S5、微柱阵列一次电铸产生金属微柱阵列;S6、去除一定厚度的光刻胶,使所有微柱将露出局部的顶端部;S7、微柱阵列二次电铸,形成超疏油钉帽结构;湿法完全去胶;低表面能修饰。通过光刻胶构建微孔阵列后电铸形成直身微柱阵列,去除部分光刻胶露出微柱顶,进行二次电铸构建微柱帽体,从而构建均匀规则并适合规模成型的超疏油表面织构。
搜索关键词: 一种 超疏油微柱 阵列 表面 制备 方法
【主权项】:
一种超疏油微柱阵列表面织构的制备方法,用于在金属基底构建超疏油表面织构,其特征在于,所述超疏油微柱阵列表面织构的制备方法包括以下步骤:S1、对金属基底进行清洁和烘干,去除表面油污和杂质;S2、光刻胶匀胶、前烘,光刻胶为正胶,通过匀胶机均匀旋涂于金属基底的正向表面,然后利用烘箱对工件进行前烘预固化;S3、光刻胶曝光,将具有特定镂空图案的掩膜板置于光刻胶上方,将紫外光透过掩膜板的镂空部分照射在光刻胶上对其进行曝光使其产生光化学反应,从而复制掩膜板图案到光刻胶;S4、光刻胶的显影和后烘,将复制了掩膜板图案的光刻胶置于显影液中,去除被曝光部分的光刻胶,使光刻胶上产生微孔阵列;将工件取出显影液后置于烘箱进行后烘工艺,对其进一步固化;S5、微柱阵列一次电铸,将工件作为阴极,镍块作为阳极,分别与电铸电源的负极和正极相连接,并置于合适的电铸液池中构成一个完整的电铸体系进行电铸,通电后,在阴极沉积原理的支配下,使镍离子在微孔底部还原成金属镍,使金属镍填满所有微孔,产生金属微柱阵列;S6、干法去胶去除一定厚度的光刻胶,使所有微柱将露出局部的顶端部;S7、微柱阵列二次电铸,将工件置于电铸系统中进行二次电铸,在阴极沉积原理的支配下,使镍离子在微柱顶部还原成大于微柱基础根的帽状的金属镍墩块,形成超疏油钉帽结构;S8、湿法完全去胶,将工件浸泡在去胶溶液进行各向同性湿法去胶,使光刻胶发生化学反应,生成反应物后被冲刷完全去除,最终得到微柱阵列表面织构;S9、低表面能修饰,将经过二次电铸加工的工件和滴有氟硅烷的承载片共同置于密闭容器中,然后放入65℃烘箱烘烤1小时,取出后放至室温,完成工件的制备。
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