[发明专利]生土地坑窑窑顶植被种植基层结构及其施工工艺

摘要

本发明涉及一种生土地坑窑窑顶植被种植基层结构及其施工工艺，包括拦马墙、种植基层及窑顶实土层，所述的拦马墙设置在窑顶实土层的崖面上，种植基层设置在窑顶实土层之上，所述的种植基层包括自下而上依次设置的找坡层、防水层、防水兼保护层、滤水层及土壤层，所述的防水层及防水兼保护层均包括水平部及竖直部，水平部位于找坡层与滤水层之间，竖直部位于拦马墙与种植基层之间。本发明是在生土地坑窑窑洞顶部的土层内增加防水层，能够有效的阻止水分下渗，防止渗水给窑洞造成破坏，同时防水层上部的土层可保持土壤的水分，从而使生土地坑窑窑洞顶部土层适于植被种植，有效提高土地利用率，降低生土地坑窑的占地面积。

主权项

一种生土地坑窑窑顶植被种植基层结构，其特征在于：包括拦马墙（1）、种植基层及窑顶实土层（2），所述的拦马墙（1）设置在窑顶实土层（2）的崖面上，种植基层设置在窑顶实土层（2）之上，所述的种植基层包括自下而上依次设置的找坡层（3）、防水层（4）、防水兼保护层（5）、滤水层（6）及土壤层（7），所述的防水层（4）及防水兼保护层（5）均包括水平部及竖直部，水平部位于找坡层（3）与滤水层（6）之间，竖直部位于拦马墙（1）与种植基层之间，所述的找坡层与防水层（4）之间设置有基层处理剂层。