[发明专利]成膜装置和成膜方法有效

专利信息
申请号: 201510726329.0 申请日: 2015-10-30
公开(公告)号: CN105568259B 公开(公告)日: 2019-05-14
发明(设计)人: 加藤寿;三浦繁博;菊地宏之;相川胜芳 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: C23C16/52 分类号: C23C16/52;C23C16/458
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;张会华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种成膜方法和成膜装置。在用于向基板供给处理气体并获得薄膜的成膜装置中,包括:旋转台,其配置在真空容器内,用于在设于其一面侧的载置区域载置基板并使该基板公转;旋转机构,其以所述基板自转的方式使所述载置区域旋转;处理气体供给机构,其用于向所述旋转台的一面侧的处理气体供给区域供给所述处理气体,并在通过所述公转而反复多次通过该处理气体供给区域的基板上进行成膜;以及控制部,其为了在基板每次位于所述处理气体供给区域时改变该基板的方向而根据包括所述旋转台的转速在内的参数计算所述基板的自转速度,并输出控制信号以使基板以计算出的自转速度自转。
搜索关键词: 装置 方法
【主权项】:
1.一种成膜装置,其用于向基板供给处理气体并获得薄膜,其中,该成膜装置包括:旋转台,其配置在真空容器内,用于在设于其一面侧的载置区域载置基板并使该基板公转;旋转机构,其以所述基板自转的方式使所述载置区域旋转;处理气体供给机构,其用于向所述旋转台的一面侧的处理气体供给区域供给所述处理气体,并在通过所述公转而反复多次通过该处理气体供给区域的基板上进行成膜;以及控制部,其为了在基板每次位于所述处理气体供给区域时改变该基板的方向而根据包括所述旋转台的转速在内的参数计算所述基板的自转速度,并输出控制信号以使基板以计算出的自转速度自转,其中,所述计算包括旋转台每旋转一周的膜厚的增加量除以目标膜厚而得到的值和所述旋转台的转速之间的乘法。
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