[发明专利]一种提高氧化物薄膜激光损伤阈值的热处理设备与方法

摘要

本发明提供一种提高氧化物薄膜激光损伤阈值的热处理设备与方法。该设备包括：样品台，位于腔室的内部，设有石英玻璃衬底和氧化物光学薄膜，该薄膜经由真空热蒸发技术或磁控溅射进行镀膜处理制成；加热装置，位于样品台的上方以及两侧，用于对样品台进行加热；输入气路管，用于将高纯度氧气充入腔室；真空泵，用于对腔室进行抽真空处理，使真空度达到2.0×10^‑4Pa；以及负偏压电路，电性耦接至样品台。相比于现有技术，本发明的负偏压电路将电压电位调至500V，施加的电场使充入的高纯度氧气进行辉光放电，形成的氧离子对薄膜表面进行轰击，从而使薄膜晶化并可减少氧化物光学薄膜的表面缺陷。

主权项

1.一种提高氧化物薄膜激光损伤阈值的热处理设备，其特征在于，所述热处理设备包括：样品台，位于腔室的内部，所述样品台设有石英玻璃衬底和氧化物光学薄膜，其中，所述氧化物光学薄膜经由真空热蒸发技术或磁控溅射进行镀膜处理制作而成；加热装置，位于所述样品台的上方以及两侧，用于对所述样品台进行加热，其加热温度介于300℃与600℃之间；输入气路管，用于将高纯度氧气充入所述腔室，所述氧气的纯度为99.999％；真空泵，位于所述腔室的下侧，用于对所述腔室进行抽真空处理，使所述腔室的真空度达到2.0×10‑4Pa；以及负偏压电路，位于所述腔室的外部，所述负偏压电路电性耦接至所述样品台，其中所述负偏压电路将电压电位调至500V，施加的电场使充入的氧气进行辉光放电，形成的氧离子对所述氧化物光学薄膜进行溅射轰击，从而使所述氧化物光学薄膜晶化，以减少所述氧化物光学薄膜的表面缺陷，并且所形成的氧离子在所述负偏压电路产生的电场作用下以500eV的能量轰击所述氧化物光学薄膜的表面，以形成完全的化学配比，进而优化金属原子的化学比失配。