[发明专利]一种有机发光器件的制备方法在审
申请号: | 201510730740.5 | 申请日: | 2015-10-30 |
公开(公告)号: | CN105374950A | 公开(公告)日: | 2016-03-02 |
发明(设计)人: | 张良睿;陈秉宏;沈仕旻 | 申请(专利权)人: | 上海和辉光电有限公司 |
主分类号: | H01L51/56 | 分类号: | H01L51/56 |
代理公司: | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人: | 俞涤炯 |
地址: | 201506 上海市金山区*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及显示器技术领域,尤其涉及一种有机发光器件的制备方法,通过在有机发光器件单元上表面形成有机材料薄膜和无机材料薄膜,且无机材料薄膜包覆有机材料薄膜以吸收应力,并在进行切割工艺之前还于该无机材料薄膜之上形成一层保护层以保护封装薄膜不会被刮伤和压伤,从而可以有效提高有机发光器件整体的机械强度,进而提高了显示器的质量。 | ||
搜索关键词: | 一种 有机 发光 器件 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种有机发光器件的制备方法,其特征在于,包括:提供一阵列基板,所述阵列基板表面形成有若干个显示器件单元区及将相邻的所述显示器件单元区予以隔离的切割区;形成若干有机发光器件单元,以在位于每个所述显示器件单元区的所述阵列基板之上均形成一所述有机发光器件单元;制备第一无机层覆盖若干所述有机发光器件单元的表面及临近所述有机发光器件单元的所述阵列基板的部分表面,以将若干所述有机发光器件单元密封于所述阵列基板上;形成有机薄膜层以将所述第一无机层的上表面予以覆盖;制备第二无机层以将所述有机薄膜层暴露的表面及所述第一无机层暴露的表面予以覆盖,且所述第二无机层还覆盖所述阵列基板暴露的表面;于所述第二无机层之上形成保护层,以将所述第二无机层的上表面予以覆盖;在所述切割区进行切割工艺以分割所述若干个显示器件单元区,形成所述有机发光器件。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
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