[发明专利]光阻涂布装置以及光刻设备在审
| 申请号： | 201510733443.6 | 申请日： | 2015-11-02 |
| 公开（公告）号： | CN105242494A | 公开（公告）日： | 2016-01-13 |
| 发明（设计）人： | 欧阳志华 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人： | 孙伟峰;黄进 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光阻涂布装置，其包括涂布单元、干燥单元以及清洗单元，其中，所述涂布单元包括喷涂机构，所述喷涂机构用于将光阻材料喷涂在玻璃基板上；所述干燥单元包括：干燥腔室，用于将玻璃基板上的光阻材料中的溶剂蒸发汽化；真空泵，与所述干燥腔室连接，用于将汽化后的溶剂排出；冷凝器，与所述真空泵连接，用于将气态的溶剂冷凝液化；回收容器，与所述冷凝器连接，用于储存液化后的溶剂；所述清洗单元连接于所述回收容器和所述涂布单元之间，从所述回收容器获取溶剂，将溶剂用于清洗所述喷涂机构。本发明还公开了包含如上所述光阻涂布装置的光刻设备。 | ||
| 搜索关键词： | 光阻涂布 装置 以及 光刻 设备 | ||
【主权项】：
一种光阻涂布装置，其特征在于，包括涂布单元(1)、干燥单元(2)以及清洗单元(3)，其中，所述涂布单元(1)包括喷涂机构(11)，所述喷涂机构(11)用于将光阻材料喷涂在玻璃基板(4)上；所述干燥单元(2)包括：干燥腔室(21)，用于将玻璃基板(4)上的光阻材料中的溶剂蒸发汽化；真空泵(22)，与所述干燥腔室(21)连接，用于将汽化后的溶剂排出；冷凝器(23)，与所述真空泵(22)连接，用于将气态的溶剂冷凝液化；回收容器(24)，与所述冷凝器(23)连接，用于储存液化后的溶剂；所述清洗单元(3)连接于所述回收容器(24)和所述涂布单元(1)之间，从所述回收容器(24)获取溶剂，将溶剂用于清洗所述喷涂机构(11)。
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