[发明专利]一种沟槽IGBT器件的制造方法在审
| 申请号： | 201510739999.6 | 申请日： | 2015-11-04 |
| 公开（公告）号： | CN105280493A | 公开（公告）日： | 2016-01-27 |
| 发明（设计）人： | 汤艺;永福;王良元;徐泓 | 申请（专利权）人： | 上海道之科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/331 | 分类号： | H01L21/331;H01L21/20 |
| 代理公司： | 杭州九洲专利事务所有限公司 33101 | 代理人： | 翁霁明 |
| 地址： | 201800 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种沟槽IGBT器件的制造方法，该制造方法是在选定的N型外延硅衬底或者区熔片上生长N型外延形成电荷贮存层，在上面生长P型外延形成沟道区；光刻沟槽图形，干法刻蚀硅衬底，生长栅极氧化层，淀积原位参杂的多晶硅材料填充沟槽；然后光刻栅极图形，刻蚀多晶硅形成顶层MOS结构的栅极；光刻N型源区注入N型杂质；然后淀积氧化层或者氮化硅等绝缘材料并退火致密，光刻接触孔，刻蚀绝缘层裸露出之前形成的所有元胞的P阱区和N型源区硅表面；注入P型杂质并激活，确保P阱区与顶层金属的欧姆接触；采取溅射顶层金属，光刻刻蚀顶层金属，淀积钝化层，光刻刻蚀钝化层，最后合金完成顶层结构的制作；有效增强沟槽IGBT电学性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 沟槽 igbt 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种沟槽IGBT器件的制造方法，其特征在于：该制造方法是在选定的N型外延硅衬底或者区熔片上生长N型外延形成电荷贮存层 ，在上面生长P型外延形成沟道区；光刻沟槽图形，干法刻蚀硅衬底，生长栅极氧化层，淀积原位参杂的多晶硅材料填充沟槽；然后光刻栅极图形，刻蚀多晶硅形成顶层MOS结构的栅极；光刻N型源区注入N型杂质；然后淀积氧化层或者氮化硅等绝缘材料并退火致密，光刻接触孔，刻蚀绝缘层裸露出之前形成的所有元胞的P阱区和N型源区硅表面；注入P型杂质并激活，确保P阱区与顶层金属的欧姆接触。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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