[发明专利]一种Ta3N5光电极及其制备方法在审
申请号: | 201510741556.0 | 申请日: | 2015-11-04 |
公开(公告)号: | CN106653936A | 公开(公告)日: | 2017-05-10 |
发明(设计)人: | 李灿;邵晨熠;宗旭 | 申请(专利权)人: | 中国科学院大连化学物理研究所 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/0224 |
代理公司: | 沈阳科苑专利商标代理有限公司21002 | 代理人: | 马驰 |
地址: | 116023 *** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本发明涉及在金属钽片上制备Ta3N5电极的方法。采用直接高温快速焙烧方法在Ta基底原位制备高结晶度的Ta2O5前驱薄膜。该Ta2O5前驱薄膜经高温氮化,获得以Ta3N5为光吸收层,Ta5N6,Ta2N和Ta叠层作为导电基底的光电极。不同于已公开报道的其他制备方法,该方法所得Ta3N5薄膜具有高致密度和结晶度,与导电基底接触紧密,具备优异的机械强度。此外Ta2O5前驱薄膜的制备过程快捷,有利于Ta3N5光电极的批量制备。此光电极可用于光电化学水分解制氢气、二氧化碳还原以及光催化降解有机物等用途。 | ||
搜索关键词: | 一种 ta3n5 电极 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种Ta3N5光电极,其特征在于:以钽片为基底,于基底表面从内至外依次制备有Ta2N层、Ta5N6层、Ta3N5表层构成光电极;Ta2N层靠近基底。
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