[发明专利]一种Ta3N5光电极及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201510741556.0 申请日: 2015-11-04
公开(公告)号: CN106653936A 公开(公告)日: 2017-05-10
发明(设计)人: 李灿;邵晨熠;宗旭 申请(专利权)人: 中国科学院大连化学物理研究所
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/0224
代理公司: 沈阳科苑专利商标代理有限公司21002 代理人: 马驰
地址: 116023 *** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明涉及在金属钽片上制备Ta3N5电极的方法。采用直接高温快速焙烧方法在Ta基底原位制备高结晶度的Ta2O5前驱薄膜。该Ta2O5前驱薄膜经高温氮化,获得以Ta3N5为光吸收层,Ta5N6,Ta2N和Ta叠层作为导电基底的光电极。不同于已公开报道的其他制备方法,该方法所得Ta3N5薄膜具有高致密度和结晶度,与导电基底接触紧密,具备优异的机械强度。此外Ta2O5前驱薄膜的制备过程快捷,有利于Ta3N5光电极的批量制备。此光电极可用于光电化学水分解制氢气、二氧化碳还原以及光催化降解有机物等用途。
搜索关键词: 一种 ta3n5 电极 及其 制备 方法
【主权项】:
一种Ta3N5光电极,其特征在于:以钽片为基底,于基底表面从内至外依次制备有Ta2N层、Ta5N6层、Ta3N5表层构成光电极;Ta2N层靠近基底。
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