[发明专利]一种带电粒子束流磁场聚焦结构及应用该结构的离子注入机有效
| 申请号： | 201510741661.4 | 申请日： | 2015-11-04 |
| 公开（公告）号： | CN106653533B | 公开（公告）日： | 2018-08-14 |
| 发明（设计）人： | 张丛 | 申请（专利权）人： | 北京中科信电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/21 | 分类号： | H01J37/21;H01J37/317 |
| 代理公司： | 长沙正奇专利事务所有限责任公司 43113 | 代理人： | 马强 |
| 地址： | 101111 北京市通*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及用于聚焦带电粒子束流的磁场结构。本发明提供了一种新型磁场聚焦结构，使束流在某一平面内实现非均匀的聚焦效果。当该磁场结构应用于离子注入机时，可矫正束流非均匀的空间或角度分布。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 带电 粒子束 磁场 聚焦 结构 应用 离子 注入 | ||
【主权项】：
1.一种带电粒子束流磁场聚焦结构，使通过该结构的束流产生Y方向的聚焦，该聚焦效果沿X方向是非均匀的；其中以该带电粒子束流的传输方向为Z方向，以垂直于Z方向且平行于水平地面的方向为X方向，以垂直于Z方向且垂直于水平地面的方向为Y方向；该带电粒子束流偏转磁场结构包括：第一对磁体，位于关于束流对称的两侧，两个磁体产生的磁场的方向相同；第二对磁体，位于关于束流对称的两侧，当沿负Z方向观察时，其位于第一对磁体的一侧，两个磁体产生的磁场的方向相同且与第一对磁体产生的磁场的方向相反；第三对磁体，位于关于束流对称的两侧，当沿负Z方向观察时，其位于第一对磁体的另一侧，其位置与第二对磁体关于第一对磁体对称，两个磁体产生的磁场的方向相同且与第一对磁体产生的磁场的方向相反；其中至少第一对磁体沿Z方向的宽度不均匀。
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