[发明专利]一种粗调低能宽带离子束均匀性的方法在审

专利信息
申请号: 201510741663.3 申请日: 2015-11-04
公开(公告)号: CN106653547A 公开(公告)日: 2017-05-10
发明(设计)人: 彭彬 申请(专利权)人: 北京中科信电子装备有限公司
主分类号: H01J37/317 分类号: H01J37/317;H01J37/302
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 101111 北京市通*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种粗调低能宽带离子束均匀性的方法,包括下列步骤下载菜单数据,检测和设置能量模式;初始化所有调节参数,调节离子源、引出及聚焦参数,确保setcup杯束流最大;收回setcup杯后,通过逐级比较法拉第阵列两端测束杯束流,调节平行透镜电流,确保宽带束在法拉第阵列中央;实时检测法拉第阵列均匀性,调节离子源、引出、水平及垂直聚焦参数;调节局部磁场或电场调节单元,移动法拉第测量束剖面,反复迭代直至达标。因本发明通过实时检测法拉第阵列均匀性来对中和调节到靶束流均匀性,在法拉第阵列均匀性达到目标值后才执行移动法拉第测量束剖面,因此可以提高宽带离子束到靶均匀性调节效率,并提高整机可靠性。
搜索关键词: 一种 低能 宽带 离子束 均匀 方法
【主权项】:
一种粗调低能宽带离子束均匀性的方法,包括以下步骤:(a)下载菜单数据,检测和设置能量模式;(b)初始化所有调节参数,调节离子源、引出及聚焦参数确保setcup杯束流最大;(c)收回setcup杯,通过逐级比较法拉第阵列两端测束杯束流,调节平行透镜电流,确保宽带束在法拉第阵列中央;(d)实时检测法拉第阵列均匀性,调节离子源、引出、水平及垂直聚焦参数;(e)调节局部磁场或电场调节单元,移动法拉第测量束剖面,反复迭代直至达标。
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