[发明专利]形成图案的方法

摘要

本发明公开了一种形成图案的方法。首先,在衬底上形成一图案化核心层。接着,均匀地在图案化核心层与衬底上形成间隙层,并且定义出多个被间隙层包围的第一凹陷区域。然后,进行回蚀刻工艺,暴露出图案化核心层与凹陷区域下方的衬底。再来,移除暴露的图案化核心层,形成多个同样被间隙层包围的第二凹陷区域。接着,在第一凹陷区域与第二凹陷区域内填入定向自组装材料,然后诱发定向自组装材料进行定向自组装过程。填充在第一凹陷区域与第二凹陷区域内的定向自组装材料会往凹陷区域的边界扩散,在第一凹陷区域与第二凹陷区域中间形成被自主装材料包围的孔洞。

主权项

一种形成图案的方法,其特征在于,包括:在一衬底上形成一核心层,并且进行图案化工艺形成一图案化核心层；在所述图案化核心层与所述衬底上顺形地形成一间隙层,并且形成多个由所述间隙层包围的第一凹陷区域；进行一回蚀刻工艺,使所述图案化核心层与位于所述第一凹陷区域内的所述衬底暴露出来；移除暴露出来的所述图案化核心层,形成多个被所述间隙层包围的第二凹陷区域；在所述第一凹陷区域与所述第二凹陷区域中填入一定向自组装材料；以及诱发所述定向自组装材料进行一定向自组装过程,扩散至所述第一凹陷区域与所述第二凹陷区域的边界处,在所述第一凹陷区域与所述第二凹陷区域内形成被所述定向自组装材料包围的一孔洞。