[发明专利]基板及其制造方法有效
| 申请号： | 201510747931.2 | 申请日： | 2015-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN105873371B | 公开（公告）日： | 2019-11-01 |
| 发明（设计）人： | 吴香兰;王志建;白四平;杨志刚;程文则;张金强 | 申请（专利权）人： | 武汉光谷创元电子有限公司 |
| 主分类号： | H05K3/14 | 分类号： | H05K3/14;H05K3/42 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 刘林华;周心志 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种基板及其制造方法。该基板包括：基材；和离子注入层，其注入到基材的表面下方。制造基板的方法包括：对基材进行前处理(S1)；以及通过离子注入将导电材料注入到经前处理后的基材的表面下方，形成离子注入层(S2)。 | ||
| 搜索关键词： | 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制造基板的方法，包括：S1：对基材进行前处理，所述前处理包括表面沉积处理和/或表面脱水处理；以及S2：通过离子注入将导电材料注入到经前处理后的所述基材的表面下方，形成离子注入层，其中，所述表面沉积处理包括：封孔处理，即将封孔剂涂布于所述基材的表面上且随后进行干燥；或者氧化物沉积处理，即在所述基材的表面上沉积一层或多层氧化物，并且所述表面脱水处理包括离子束照射处理，即在真空环境下，用离子束照射所述基材的表面，同时排出所产生的水蒸气，其中所述离子束包括由氩气、氮气、氧气、氢气中的一种或多种组成的离子气体。
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