[发明专利]一种钯膜抗硫抗氯方法有效
| 申请号： | 201510750213.0 | 申请日： | 2015-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN106669448B | 公开（公告）日： | 2019-04-23 |
| 发明（设计）人： | 李慧;徐天莹;唐春华;徐恒泳 | 申请（专利权）人： | 中国科学院大连化学物理研究所 |
| 主分类号： | B01D71/02 | 分类号： | B01D71/02;B01D67/00 |
| 代理公司： | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人： | 马驰 |
| 地址： | 116023 *** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明通过在钯膜表面涂覆纳米钯/MoS2组合(或MoS2)的“铠甲层”，有效阻截硫氯污染物(如H2S，HCl)，进而避免钯膜表面受到污染。通过控制纳米钯和MoS2粒子大小，保证“铠甲层”孔径分布在0.05‑0.2μm左右，不影响钯膜的透氢量。与钯膜表面相比，纳米钯颗粒具有高比表面积和高吸附活性的明显优点，因此，“铠甲层”将能通过优先吸附、分解硫氯污染物的原理避免它们在钯膜表面的解离吸附。钯膜“铠甲层”有望在避免膜表面受到硫氯污染的同时保证钯膜的高透量，这对于解决钯膜抗硫抗氯的难题，并推进其工业应用有重要的研究意义。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 钯膜抗硫抗氯 方法 | ||
【主权项】：
1.一种抗硫抗氯钯膜的制备方法，其特征在于：将MoS2颗粒加入纳米钯悬浮液中或将MoS2颗粒加入去离子水中，均匀混合后制成修饰液，再通过浸渍和煅烧处理程序将修饰液涂覆在钯膜表面，重复浸渍和煅烧程序1次以上，直至得到均匀的覆盖层，所用的MoS2粒子大小分布在10 nm～200 nm。
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