[发明专利]一种大面积二硫化钼薄膜材料的制备方法在审

专利信息
申请号: 201510755536.9 申请日: 2015-11-06
公开(公告)号: CN105271800A 公开(公告)日: 2016-01-27
发明(设计)人: 冯奕钰;陈传蒙;封伟 申请(专利权)人: 天津大学
主分类号: C03C17/22 分类号: C03C17/22;C04B41/50;C04B41/85;C23C16/30
代理公司: 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 代理人: 王丽
地址: 300072 天*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明涉及一种大面积二硫化钼薄膜材料的制备方法,将硫粉和钼源置于瓷舟内待用,将实验用固态基体分别置于丙酮、异丙醇各超声一段时间,以去除基体表面的杂质;然后将基体置于放有钼源的瓷舟之上,最后分别把放有硫源和钼源的瓷舟置于管式炉中;通入惰性气体Ar来除尽管式炉中的空气,设置管式炉中钼源所在温区加热到650~850℃;同样的管式炉中硫源所在温区温度加热到145~200℃;保持温度10~20min后温度冷却至室温;得到了单层或者少层大面积厘米级的二硫化钼薄膜材料。本发明制得二硫化钼薄膜材料,具有大面积、单层或少层均能得到、均匀性好、结晶性好等优点,该方法操作简单,耗时短,且适合大规模生产。
搜索关键词: 一种 大面积 二硫化钼 薄膜 材料 制备 方法
【主权项】:
一种大面积二硫化钼薄膜材料的制备方法,其特征在于包括以下过程:(1)将硫粉和钼源置于瓷舟内待用,将实验用固态基体分别置于丙酮、异丙醇各超声一段时间,以去除基体表面的杂质;然后将基体置于放有钼源的瓷舟之上,最后分别把放有硫源和钼源的瓷舟置于管式炉中;(2)反应开始前,通入惰性气体Ar来除尽管式炉中的空气,防止高温反应中空气杂质影响二硫化钼的沉积;调节Ar气流量为100~200sccm,设置管式炉中钼源所在温区加热到650~850℃;同样的管式炉中硫源所在温区温度加热到145~200℃;保持温度10~20min后温度冷却至室温;(3)温度降至室温后,将基体从管式炉中取出,就得到了单层或者少层大面积厘米级的二硫化钼薄膜材料。
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