[发明专利]标靶影像对位装置及具有该装置的曝光机

摘要

本发明的标靶影像对位装置包含两个维移载单元及光学检测单元，二维移载单元包括第一滑轨、第一滑座、第二滑轨及第二滑座，第一滑轨用于设置于曝光机上且位于对位位置的邻侧，并以其滑动方向平行于第一方向的方式配置；第一滑座可移动地设置于第一滑轨上以被驱动滑动；第二滑轨与第一滑座结合并以其滑动方向平行于第二方向且延伸至对位位置上方的方式配置，第二方向垂直第一方向；第二滑座可移动地设置于第二滑轨上以被驱动滑动；光学检测单元设置于第二滑座上，在对位程序期间，光学检测单元与第二滑座之间的相对位置为固定。

主权项

一种标靶影像对位装置，其特征在于，应用于曝光机以供进行基板与底片的标靶间的对位程序，该曝光机包含承载基板与底片的两个曝光框单元，该两个曝光框单元沿第一方向交替地往返移载于对位位置与曝光位置，该标靶影像对位装置包含：二维移载单元，包括：第一滑轨，用于设置于该曝光机上且位于该对位位置的邻侧，并以其滑动方向平行于该第一方向的方式配置；第一滑座，可移动地设置于该第一滑轨上以被驱动滑动；第二滑轨，与该第一滑座结合并以其滑动方向平行于第二方向且延伸至该对位位置上方的方式配置，该第二方向垂直该第一方向；及第二滑座，可移动地设置于该第二滑轨上以被驱动滑动；及光学检测单元，设置于该第二滑座上，该光学检测单元具有光源组及摄影机，在对位程序期间，该光学检测单元与该第二滑座之间的相对位置为固定。