[发明专利]承载装置、反应腔室及半导体加工设备

摘要

本发明提供一种承载装置、反应腔室及半导体加工设备，其设置在反应腔室内，且包括可升降的基座、与之连接的波纹管组件以及绝缘组件，该绝缘组件用于将波纹管组件与基座电绝缘。本发明提供的承载装置，其不仅可以在保证基座不接地的前提下，简化绝缘结构，从而可以给安装调试带来方便，而且还可以提高工艺过程中的可靠性和安全性。

主权项

1.一种承载装置，设置在反应腔室内，且包括可升降的基座和与之连接的波纹管组件，其特征在于，还包括绝缘组件，所述绝缘组件用于将所述波纹管组件与所述基座电绝缘；其中，所述波纹管组件包括：上法兰，其通过第一螺钉与所述基座固定连接；下法兰，其通过第二螺钉与所述反应腔室底部的腔室壁固定连接；提升轴，所述提升轴的上端与所述上法兰固定连接，所述提升轴的下端竖直向下延伸至所述反应腔室的外部；波纹管，套设在所述提升轴上，且位于所述上法兰和下法兰之间，并分别与二者密封连接；所述绝缘组件包括：绝缘环，其设置在所述上法兰与所述基座之间，用以将二者电绝缘；绝缘套，其套设在所述第一螺钉上，用以将所述第一螺钉与所述上法兰电绝缘。