[发明专利]一种弱散射目标的RCS测量方法有效
申请号: | 201510760592.1 | 申请日: | 2015-11-11 |
公开(公告)号: | CN106443611B | 公开(公告)日: | 2020-05-05 |
发明(设计)人: | 赵京城;田进军;杨硕;洪韬;高旭;柴建忠;孙文波 | 申请(专利权)人: | 北京航空航天大学 |
主分类号: | G01S7/41 | 分类号: | G01S7/41 |
代理公司: | 北京慕达星云知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11465 | 代理人: | 崔自京 |
地址: | 100191*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 提出了一种弱散射目标的RCS测量方法,包括测量目标支架及其它杂散回波构成的环境背景回波;在支架上放置定标体,测量定标体的回波信号;将弱散射目标的载体置于支架上,将弱散射目标用替代物遮住以确保该区域基本不产生散射,获得用于对所述载体进行对消处理的目标背景信号;去除所述替代物露出待测的所述弱散射目标,测量获得目标信号;采用背景矢量相减技术,对目标信号和定标体的回波信号分别应用目标背景信号和环境背景回波,获得弱散射目标的RCS测量结果。上述方法,提高了弱散射目标的测量精度,去除了对弱散射目标的载体形状的限制,增加被测缝隙、台阶等弱散射目标的尺寸,同时降低了载体的设计加工成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 散射 目标 rcs 测量方法 | ||
【主权项】:
一种弱散射目标的RCS测量方法,包括以下步骤:步骤1:环境背景测量:测量包含目标支架在内的微波暗室背景,获得目标支架及其它杂散回波构成的环境背景回波B(f);步骤2:定标体测量:在目标支架上放置定标体,雷达接收到的定标体的回波信号SC(f);步骤3:目标背景测量:将弱散射目标的载体置于目标支架上,将弱散射目标用替代物遮住以确保该区域基本不产生散射,获得用于对所述载体进行对消处理的目标背景信号BT(f);步骤4:进行目标测量:保持所述载体姿态不变,去除所述替代物露出待测的所述弱散射目标,测量获得目标信号ST(f);步骤5:定标处理:采用背景矢量相减技术,对所述目标信号和所述定标体的回波信号分别应用各自对应的所述目标背景信号和所述环境背景回波,获得所述弱散射目标的RCS测量结果。
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