[发明专利]一种GaN/CQDS复合光催化剂及其制备方法和应用在审

专利信息
申请号: 201510761085.X 申请日: 2015-11-10
公开(公告)号: CN105233852A 公开(公告)日: 2016-01-13
发明(设计)人: 程宏斌;李佳;郑学军;姜涛;王朋朋;王现英;苏敏 申请(专利权)人: 上海理工大学
主分类号: B01J27/24 分类号: B01J27/24;B01J35/10;C02F1/32;C02F101/38
代理公司: 上海申汇专利代理有限公司 31001 代理人: 吴宝根
地址: 200093 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明一种GaN/CQDS复合光催化剂,由GaN和碳量子点CQDS组成,在催化剂中,GaN的质量百分比为99.99%-90%,碳量子点CQDS的质量百分比为0.01%-10%。本发明还提供了上述的一种GaN/CQDS复合光催化剂的制备方法,先采用GaN及Ga2O3混合制备混合镓源;然后将混合镓源加入一个反应容器中进行化学气相沉积制备GaN纳米线;再制备CQDS;将CQDS和GaN纳米线按照质量百分比混合、搅拌,搅拌后放置于超声波仪器中超声,然后将混合物干燥得GaN-CQDS复合光催化剂。本发明的光催化剂比同类型的单一GaN光催化剂对分解物具有更高的催化效率和更快的催化速度。
搜索关键词: 一种 gan cqds 复合 光催化剂 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
一种GaN/CQDS复合光催化剂,其特征在于:由GaN和碳量子点CQDS组成,在所述的催化剂中,GaN的质量百分比为99.99%‑90%,所述的碳量子点CQDS的质量百分比为0.01%‑10%;所述的GaN为纳米线结构,所述纳米线的直径为60‑120nm。
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