[发明专利]利用图案化电荷标记研究聚合物弛豫现象的方法在审
申请号: | 201510767000.9 | 申请日: | 2015-11-11 |
公开(公告)号: | CN105353172A | 公开(公告)日: | 2016-02-24 |
发明(设计)人: | 吝子红;关丽;张建平 | 申请(专利权)人: | 中国人民大学 |
主分类号: | G01Q60/24 | 分类号: | G01Q60/24 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人: | 关畅;王春霞 |
地址: | 100872 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种利用图案化电荷标记研究聚合物弛豫现象的方法。该方法包括如下步骤:1)利用PDMS印章对聚合物薄膜进行图案化注电,在所述聚合物薄膜的表面构筑出电荷图案;所述PDMS印章为表面具有微纳米图案结构的PDMS模板;所述PDMS印章的上表面和下表面均镀有金属;2)研究所述聚合物薄膜在温度刺激或溶剂刺激条件下的弛豫现象。发明提供的图案化电荷标记研究聚合物弛豫的方法,以图案化的静电荷能够在微尺度下作为一种标记,实时观察、定量测量注电区域和非注电区域在弛豫过程中相关参量的对比和反差,提供了一条更直观的观察介电弛豫差异的方法,为聚合物作为工程材料在电场作用下的老化、失效分析提供实验基础和理论依据。 | ||
搜索关键词: | 利用 图案 电荷 标记 研究 聚合物 现象 方法 | ||
【主权项】:
一种利用图案化电荷标记研究聚合物弛豫现象的方法,包括如下步骤:1)利用PDMS印章对聚合物薄膜进行图案化注电,在所述聚合物薄膜的表面构筑出电荷图案;所述PDMS印章为表面具有微纳米图案结构的PDMS模板;所述PDMS印章的上表面和下表面均镀有金属;2)研究所述聚合物薄膜在温度刺激或溶剂刺激条件下的弛豫现象。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国人民大学,未经中国人民大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510767000.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。