[发明专利]反渗透膜元件的清洗方法在审

专利信息
申请号: 201510771337.7 申请日: 2015-11-12
公开(公告)号: CN105214507A 公开(公告)日: 2016-01-06
发明(设计)人: 宋雁飞 申请(专利权)人: 师宗煤焦化工有限公司
主分类号: B01D65/06 分类号: B01D65/06
代理公司: 昆明正原专利商标代理有限公司 53100 代理人: 徐玲菊;蒋文睿
地址: 655700 云*** 国省代码: 云南;53
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摘要: 发明公开一种反渗透膜元件的清洗方法,将待清洗的膜元件用非氧化性杀菌剂浸泡数小时,再用清洗剂进行常规封闭循环清洗,清洗后的膜元件用除盐水冲洗,将冲洗后的膜元件用碱性清洗液进行常规封闭循环清洗,将清洗后的膜元件用除盐水冲洗,即完成反渗透膜元件的清洗。实施上述清洗方案后,针对低温、低浊度、高有机物、高微生物等特殊性水质的反渗透处理,对其污染后膜元件的清洗效果明显优于传统清洗方案,能明显提高产水量和回收率,降低反渗透设备运行压差及产水电导率。同时减少清洗时化学药剂对膜元件的损伤。使用非氧化性杀菌剂清洗后能有效避免细菌对膜元件的污染,延长清洗周期和反渗透的使用寿命,并降低后续设备的生产成本。
搜索关键词: 反渗透 元件 清洗 方法
【主权项】:
一种反渗透膜元件的清洗方法,其特征在于经过下列各步骤:(1)将待清洗的膜元件用非氧化性杀菌剂浸泡12~24小时;(2)将步骤(1)浸泡后的膜元件用清洗剂进行常规封闭循环清洗60分钟,并排出清洗剂出液,在清洗过程中控制清洗剂通过膜元件的压力为0.2MPa、流量为50m3/h;(3)将步骤(2)清洗后的膜元件用除盐水冲洗,直至冲洗出水的pH=6~9;(4)以除盐水为溶剂配制含有下列质量浓度组分的碱性清洗液:十二烷基苯磺酸钠0.1%、氢氧化钠0.1%、乙二胺四乙酸四钠盐1.0%、三聚磷酸钠0.1%;该碱性清洗液的pH=11.5;(5)将步骤(3)冲洗后的膜元件用步骤(4)所配制的碱性清洗液进行常规封闭循环清洗60分钟,并排出碱性清洗液出液,在清洗过程中控制碱性清洗液通过膜元件的压力为0.2MPa、流量为50m3/h;(6)将步骤(5)清洗后的膜元件用除盐水冲洗,直至冲洗出水的pH=6~9,即完成反渗透膜元件的清洗。
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