[发明专利]一种氧化物薄膜型热电偶及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201510776351.6 申请日: 2015-11-12
公开(公告)号: CN105300544B 公开(公告)日: 2018-11-23
发明(设计)人: 任巍;史鹏;刘艳涛;田边;蒋庄德 申请(专利权)人: 西安交通大学
主分类号: G01K7/02 分类号: G01K7/02;H01L35/34
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 陆万寿
地址: 710049 陕*** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种氧化物薄膜型热电偶及其制备方法,采用磁控溅射工艺,在高温陶瓷基片上沉积制备可用于高温温度测量的氧化物薄膜热电偶,并采用涂敷氧化物保护层,改善氧化物薄膜热偶的热挥发性,提高热偶的使用性能。该薄膜热电偶采用直接贴装在陶瓷基片表面,可用于真空和氧化气氛中,能够在1000℃‑1250℃高温下长期稳定工作。
搜索关键词: 一种 氧化物 薄膜 热电偶 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种氧化物薄膜型热电偶,其特征在于:包括基层的陶瓷基片(1)、设置在陶瓷基片(1)上的中间层氧化物薄膜热电极和包覆在氧化物薄膜热电极上的顶层氧化铝保护膜层(3);所述氧化物薄膜热电极是由沿陶瓷基片(1)中心线呈镜像对称设置的氧化物薄膜热电极一(4)及热电极二(5)组成;热电极一(4)和热电极二(5)一端部分重叠搭接构成热接点(2);热电极一(4)和热电极二(5)另一端为引线端(6),引线端(6)设置在氧化铝保护膜层(3)外;热电极一(4)和热电极二(5)的材料分别为掺锡氧化铟或氧化铟;掺锡氧化铟材料中锡含量为5‑10%,所述的氧化铟材料为纯度99%以上;氧化铝保护膜层(3)的厚度为1.5~2.5μm;陶瓷基片(1)是氧化铝、莫来石或SiC的结构陶瓷。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安交通大学,未经西安交通大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510776351.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top