[发明专利]一种光刻胶图案的形成方法在审
| 申请号： | 201510781896.6 | 申请日： | 2015-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN105301916A | 公开（公告）日： | 2016-02-03 |
| 发明（设计）人： | 陈哲;任鲁风;殷金龙 | 申请（专利权）人： | 北京中科紫鑫科技有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/32;G03F7/027;G03F7/016 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 101111 北京市大兴区经济技术*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻胶图案的形成方法，组合物包括有机硅流平剂0.4-0.55份、溶剂20-23份、光活性物质2-3份和树脂16-18份。形成方法包括（1）准备一个光纤面板基板；（2）在光纤面板基板的正面涂覆光刻胶组合物；（3）在光化辐射下图案化曝光该光刻胶组合物层；（4）在光刻胶组合物层上施加显影剂甲基-2-羟基异丁酸酯和2-庚酮，将光刻胶组合物层上的未曝光区域用显影剂去除，形成光刻胶图案。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻胶图案的形成方法，其特征在于，包括以下步骤：准备一个光纤面板基板；在光纤面板基板的正面涂覆光刻胶组合物，形成光刻胶组合物层；在光化辐射下图案化曝光该光刻胶组合物层；在光刻胶组合物层上施加显影剂甲基‑2‑羟基异丁酸酯和环己酮，将光刻胶组合物层上的未曝光区域用显影剂去除，形成光刻胶图案。
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