[发明专利]一种光刻胶清洗组合物在审
| 申请号： | 201510781928.2 | 申请日： | 2015-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN105301919A | 公开（公告）日： | 2016-02-03 |
| 发明（设计）人： | 陈哲;任鲁风;殷金龙 | 申请（专利权）人： | 北京中科紫鑫科技有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 101111 北京市大兴区经济技术*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻胶清洗组合物。包括以下组分：甲基苯甲醇或二甲基苯甲醇，聚氧化丙烯三醇，壬基聚氧乙烯醚和有机溶剂。还包括腐蚀抑制剂对氨基苯甲酸甲酯、儿茶酚和渗透剂JFC-2。本发明对光刻胶的清洗能力强，同时，不会腐蚀芯片基材，非常适合工业化生产，大规模的推广应用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 清洗 组合 | ||
【主权项】：
一种光刻胶清洗组合物，其特征在于，包括以下组分：甲基苯甲醇或二甲基苯甲醇，聚氧化丙烯三醇，壬基聚氧乙烯醚和有机溶剂。
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