[发明专利]一种形成光刻胶组合物在审
| 申请号： | 201510781929.7 | 申请日： | 2015-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN105301903A | 公开（公告）日： | 2016-02-03 |
| 发明（设计）人： | 陈哲;任鲁风;殷金龙 | 申请（专利权）人： | 北京中科紫鑫科技有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/027 | 分类号： | G03F7/027;G03F7/004 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 101111 北京市大兴区经济技术*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种形成光刻胶组合物。所述组合物包括：聚醚改性的有机硅流平剂、溶剂、光活性物质、有机酸、树脂和颜料分散体。将该光刻胶涂布于芯片上，得到的膜层均匀、平滑。制备得到的光刻胶非常适合涂布于基因组测序中的基因芯片上，得到的检测结果精度高，可以进行大规模工业生产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 形成 光刻 组合 | ||
【主权项】：
一种形成光刻胶组合物，其特征在于，所述组合物包括：聚醚改性的有机硅流平剂、溶剂、光活性物质、有机酸、树脂和颜料分散体。
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