[发明专利]一种高磁感取向硅钢EBSD试样的制备方法在审

专利信息
申请号: 201510782352.1 申请日: 2015-11-16
公开(公告)号: CN105259002A 公开(公告)日: 2016-01-20
发明(设计)人: 肖欢;赵刚;鲍思前;叶传龙;林希峰;刘升 申请(专利权)人: 武汉科技大学
主分类号: G01N1/28 分类号: G01N1/28;G01N1/32
代理公司: 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 代理人: 张火春
地址: 430081 *** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 一种高磁感取向硅钢EBSD试样的制备方法,其技术方案是:对1~10种不同的高磁感取向硅钢分别切割为RD×ND×TD=(9~11)×(0.3~4)×(4~6)mm的原始试样,将原始试样相嵌入导电型镶嵌料中,得到镶嵌试样;再对镶嵌试样进行机械抛光,切割为RD×ND×TD=(14~16)×(6~8)×Hmm的切割试样,清洗吹干。然后按HNO3︰冰乙酸︰C2H5OH的体积比为4︰1︰(94~97)配料,混合,制得去应力腐蚀液;最后将所述去应力腐蚀液以1~2滴/秒的速度滴到切割试样的目标观察面,持续8~10秒,快速洁净吹干即可。本发明具有操作简便、能满足高磁感取向硅钢沿整个厚度方向做数据采集需要、能节省抽真空时间和能提高检测效率的特点。
搜索关键词: 一种 高磁感 取向 硅钢 ebsd 试样 制备 方法
【主权项】:
一种高磁感取向硅钢EBSD试样的制备方法,其特征在于所述制备方法:    RD表示高磁感取向硅钢轧向,    ND表示高磁感取向硅钢法向,    TD表示高磁感取向硅钢横向,    RD×ND面为目标观察面;    步骤一、将1~10种不同的高磁感取向硅钢分别切割成原始试样,单个原始试样的尺寸为RD×ND×TD=(9~11)×(0.3~4)×(4~6) mm;    步骤二、将步骤一所述原始试样镶嵌入导电型镶嵌料中,得到镶嵌试样;所述镶嵌试样的高度H为6~8mm,所述镶嵌试样中所镶嵌的原始试样的累积厚度B≤4mm;    步骤三、对所述镶嵌试样进行机械抛光,目标观察面抛光至粗糙度Ra为0.012~0.05μm,得到机械抛光试样,清洗吹干;    步骤四、将所述清洗吹干后的机械抛光试样切割成尺寸为RD×ND×TD =(14~16)×(6~8)×H,得到切割试样;所镶嵌的原始试样的目标观察面位于所述切割试样的目标观察面的中心位置处,清洗吹干;    步骤五、按HNO3︰冰乙酸︰C2H5OH的体积比为4︰1︰(94~97),将HNO3、冰乙酸和C2H5OH混合,制得去应力腐蚀液;    步骤六、将切割试样放置在培养皿中,切割试样的目标观察面朝上;再将所述去应力腐蚀液以1~2滴/秒的速度滴加到切割试样的目标观察面上,持续8~10秒,快速洁净吹干,制得高磁感取向硅钢EBSD试样。
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