[发明专利]具有单层栅极的非易失性存储器件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201510789715.4 申请日: 2015-11-17
公开(公告)号: CN105810685B 公开(公告)日: 2020-08-18
发明(设计)人: 朴圣根 申请(专利权)人: 爱思开海力士有限公司
主分类号: H01L27/11531 分类号: H01L27/11531;H01L27/11521;H01L27/11526;H01L27/11582;H01L27/11573;H01L27/11529;H01L27/11556
代理公司: 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙) 11363 代理人: 俞波;许伟群
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种非易失性存储器件包括:有源区,有源区沿第一方向延伸并且包括分别设置在有源区的两端的源极区和漏极区;栅电极图案,栅电极图案沿第二方向延伸并且设置在源极区与漏极区之间,其中,第二方向与第一方向交叉地延伸;栅极绝缘图案,栅极绝缘图案设置在栅电极图案与有源区之间;源极接触插塞和漏极接触插塞,源极接触插塞和漏极接触插塞分别耦接至源极区与漏极区;以及耦合接触插塞,耦合接触插塞设置在栅电极图案之上,并且与栅电极图案绝缘。
搜索关键词: 具有 单层 栅极 非易失性存储器 及其 制造 方法
【主权项】:
一种非易失性存储器件,包括:有源区,沿第一方向延伸并且包括分别设置在有源区的两端的源极区和漏极区;栅电极图案,沿第二方向延伸并且设置在源极区与漏极区之间,其中,第二方向与第一方向交叉地延伸;栅极绝缘图案,设置在栅电极图案与有源区之间;源极接触插塞和漏极接触插塞,分别耦接至源极区和漏极区;以及耦合接触插塞,设置在栅电极图案之上并且与栅电极图案绝缘。
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