[发明专利]柔性基底剥离方法在审
申请号: | 201510793028.X | 申请日: | 2015-11-18 |
公开(公告)号: | CN105304816A | 公开(公告)日: | 2016-02-03 |
发明(设计)人: | 陈龙龙;张建华;张帅 | 申请(专利权)人: | 上海大学 |
主分类号: | H01L51/00 | 分类号: | H01L51/00;H01L51/56 |
代理公司: | 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 | 代理人: | 顾勇华 |
地址: | 200444*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种柔性基底剥离方法,在刚性材料基底之上依次制备连接层和反应层,然后以反应层上表面作为制备柔性基底的载体基板表面,在反应层上表面上制备柔性基底,再进行后续相应器件或膜层的制备,其中连接层和反应层皆在柔性基底和后续相应器件或膜层制备过程中保持稳定,且连接层在反应层的制备过程中也保持稳定,当完成柔性基底和后续相应器件或膜层的制备之后,再通过改变化学反应条件,使得反应层与连接层发生反应,使连接层和反应层被去除,从而使柔性基底与刚性材料基底分离。本发明既可以保证衬底完整无损的前提下完成衬底的剥离,也可以充分利用成熟的基于玻璃的膜层制备工艺、配套设备,有利于产业化推广。 | ||
搜索关键词: | 柔性 基底 剥离 方法 | ||
【主权项】:
一种柔性基底剥离方法,其特征在于:采用刚性材料基底(1),在所述刚性材料基底(1)之上依次制备连接层(2)和反应层(3),然后以所述反应层(3)上表面作为制备所述柔性基底(4)的载体基板表面,在所述反应层(3)上表面上制备所述柔性基底(4),再在所述柔性基底(4)上进行后续相应器件或膜层的制备,其中所述连接层(2)和所述反应层(3)皆在所述柔性基底(4)和后续相应器件或膜层制备过程中保持稳定,且所述连接层(2)在所述反应层(3)的制备过程中也保持稳定,当完成柔性基底(4)和后续相应器件或膜层的制备之后,再通过改变化学反应条件,使得反所述反应层(3)与所述连接层(2)发生反应,使连接层(2)和反应层(3)被去除,从而使所述柔性基底(4)与所述刚性材料基底(1)分离。
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