[发明专利]一种磁流变抛光方法及装置在审
| 申请号： | 201510793529.8 | 申请日： | 2015-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN105458839A | 公开（公告）日： | 2016-04-06 |
| 发明（设计）人： | 许亮;陈永福;杜群波;许君 | 申请（专利权）人： | 宇环数控机床股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00 |
| 代理公司： | 长沙新裕知识产权代理有限公司 43210 | 代理人： | 刘熙 |
| 地址： | 410323 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种磁流变抛光方法及装置，所述方法是将工件置于设有磁场的磁流变液中，使工件做至少两个自由度的运动对工件的表面进行抛光加工。本发明的特点是在具有磁场的磁流变液中使工件做多个自由度的运动，在梯度磁场的作用下，由于液体形态的磁流变液会变成具有强粘弹性作用的液固态，其沿着磁力线方向形成的磁链将夹持着磨粒，相当于一个个磁柔性小磨头，利用工件与磁流变液产生相对运动，通过控制工件的多自由度运动，能够在一次装夹下，同时对一个或多个工件的外表面进行抛光加工，其外表面可以是平面、弧面或复杂曲面。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 流变 抛光 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种磁流变抛光方法，其特征是将工件置于设有磁场的磁流变液中，使工件做至少两个自由度的运动对工件的表面进行抛光加工。
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