[发明专利]聚合物、有机层组合物、有机层以及形成图案的方法

摘要

本发明公开一种聚合物、有机层组合物、有机层以及形成图案的方法，具体公开由化学式1表示的部分的聚合物、包含所述聚合物的有机层组合物、由所述有机层组合物形成的有机层以及使用所述有机层组合物形成图案的方法。化学式1表示如下，其中，在化学式1中，A¹和A²各自独立地是衍生自含氮原子的芳环基团的二价基团，A³和A⁴各自独立地是由化学式2表示的二价基团，n是0或1，以及‘*’指示化合物或化合物的部分的连接点。可以提供具有改善的溶解性、耐蚀刻性以及储存稳定性的有机层材料。

主权项

1.一种聚合物，其特征在于，包含由化学式1表示的部分：[化学式1]其中，在化学式1中，A1和A2各自独立地是衍生自含氮原子的芳环基团的二价基团，A3和A4各自独立地是由化学式2表示的二价基团，n是0或1，以及‘*’指示化合物或化合物的部分的连接点，限制条件是所述含氮原子的芳环基团的氮原子与经取代或未经取代的C1到C30烷基、被至少一个氧原子间断开的经取代或未经取代的C1到C30烷基、含羰基的基团或其组合键结，[化学式2]其中，在化学式2中，X1和X2各自独立地是经取代或未经取代的C6到C30芳基，X3是经取代或未经取代的C6到C50亚芳基，以及‘*’指示化合物或化合物的部分的连接点，所述含氮原子的芳环基团是群组1中列出的化合物中的一个：[群组1]其中，在群组1中，R1、R2以及R3独立地是经取代或未经取代的C1到C30烷基、被至少一个氧原子间断开的经取代或未经取代的C1到C30烷基、含羰基的基团或其组合，Z1到Z6独立地是羟基、甲氧基、乙氧基、卤素、经取代或未经取代的C6到C30芳基、经取代或未经取代的C3到C30环烯基、经取代或未经取代的C1到C20烷基胺基、经取代或未经取代的C7到C20芳基烷基、经取代或未经取代的C1到C20杂烷基、经取代或未经取代的C2到C30杂环烷基、经取代或未经取代的C2到C30杂芳基、经取代或未经取代的C1到C4烷基醚基、经取代或未经取代的C7到C20芳基亚烷基醚基、经取代或未经取代的C1到C30卤烷基或其组合，以及a、b、c、d、e以及f各自独立地是0到2的整数，其中R1、R2以及R3是包含至少三个碳的基团。