[发明专利]COA型阵列基板的制备方法及COA型阵列基板在审
申请号: | 201510809106.0 | 申请日: | 2015-11-20 |
公开(公告)号: | CN105259683A | 公开(公告)日: | 2016-01-20 |
发明(设计)人: | 邓炜佳 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/13 | 分类号: | G02F1/13;G02F1/1335 |
代理公司: | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人: | 林才桂 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供一种COA型阵列基板的制备方法及COA型阵列基板。本发明的COA型阵列基板的制备方法,利用TFT基板上的像素电极图案、以及壳聚糖的溶解度随pH值变化而改变的性质,使用电化学沉积的方法在TFT基板上形成包括红色滤光层、绿色滤光层、及蓝色滤光层的量子点彩色滤光膜,量子点在成膜前分散在电解液中,成膜前后除电解液的量子点浓度降低外无其他性质变化,补充量子点后电解液仍可继续使用,故可实现量子点的零浪费,与现有的彩色滤光膜的制备方法相比,无需使用高温工序,有效提高了量子点利用率,同时能够节省两到三次光刻工艺,从而降低成本、保护环境。 | ||
搜索关键词: | coa 阵列 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种COA型阵列基板的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1、提供一TFT基板(10),所述TFT基板(10)包括衬底基板(11)、设于衬底基板(11)上的TFT层(21)、以及设于TFT层(21)上的像素电极层(22),其中,所述像素电极层(22)包括间隔设置的数个红色子像素电极(221)、数个绿色子像素电极(222)、及数个蓝色子像素电极(223);在所述TFT层(21)上位于数个红、绿、蓝子像素电极(221、222、223)的间隔区域内形成黑色矩阵(23);步骤2、提供对电极(50)、第一电解液(61)、第二电解液(62)、及第三电解液(63);所述对电极(50)包括绝缘基板(51)、及设于所述绝缘基板(51)上的数个对电极单元(52),所述数个对电极单元(52)分别与所述TFT基板(10)上的数个红、绿、蓝子像素电极(221、222、223)相对应设置;所述第一电解液(61)为包含红色量子点和壳聚糖的混合弱酸性溶液,所述第二电解液(62)为包含绿色量子点和壳聚糖的混合弱酸性溶液,所述第三电解液(63)为包含散射颗粒和壳聚糖的混合弱酸性溶液;步骤3、将对电极(50)与所述TFT基板(10)一同浸入到第一电解液(61)中,使用导线、电源在所述TFT基板(10)上的红色子像素电极(221)与对电极(50)上与红色子像素电极(221)相对应的对电极单元(52)之间形成连接电路,所述TFT基板(10)作为负极,所述对电极(50)作为正极,通电后,所述TFT基板(10)上的红色子像素电极(221)附近的第一电解液(61)的pH值升高,使得第一电解液(61)内的壳聚糖沉积于红色子像素电极(221)上,所述壳聚糖带动红色量子点沉积于红色子像素电极(221)上,从而分别在数个红色子像素电极(221)上形成数个红色滤光层(31);控制电化学沉积时间,待所述红色滤光层(31)的厚度达到一定值后,断电,取出TFT基板(10)和对电极(50),并进行清洗;步骤4、将所述TFT基板(10)与对电极(50)一同浸入到第二电解液(62)中,使用导线、电源在所述TFT基板(10)上的绿色子像素电极(222)和对电极(50)上与绿色子像素电极(222)相对应的对电极单元(52)之间形成连接电路,所述TFT基板(10)作为负极,所述对电极(50)作为正极,通电后,所述TFT基板(10)上的绿色子像素电极(222)附近的第二电解液(62)的pH值升高,使得第二电解液(62)内的壳聚糖沉积于绿色子像素电极(222)上,所述壳聚糖带动绿色量子点沉积于绿色子像素电极(222)上,从而分别在数个绿色子像素电极(222)上形成数个绿色滤光层(32);控制电化学沉积时间,待所述绿色滤光层(32)的厚度达到一定值后,断电,取出TFT基板(10)和对电极(50),并进行清洗;步骤5、将所述TFT基板(10)与对电极(50)一同浸入到第三电解液(63)中,使用导线、电源在所述TFT基板(10)上的数个蓝色子像素电极(223)与对电极(50)上与蓝色子像素电极(223)相对应的对电极单元(52)之间形成连接电路,所述TFT基板(10)作为负极,所述对电极(50)作为正极,通电后,所述TFT基板(10)上的蓝色子像素电极(223)附近的第三电解液(63)的pH值升高,使得第三电解液(63)内的壳聚糖沉积于蓝色子像素电极(223)上,所述壳聚糖带动散射颗粒沉积于蓝色子像素电极(223)上,从而在数个蓝色子像素电极(223)上形成数个蓝色滤光层(33);控制电化学沉积时间,待所述蓝色滤光层(33)的厚度达到一定值后,断电,取出基板(10)和对电极(50),并进行清洗;所述步骤3、步骤4、和步骤5可以按任意顺序进行;经过所述步骤3‑5后,在所述像素电极层(22)上得到包括数个红色滤光层(31)、数个绿色滤光层(32)、及数个蓝色滤光层(33)的量子点彩色滤光膜(30),从而制得一COA型阵列基板。
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