[发明专利]一种电子束退火提高氧化锌薄膜电学性能的方法在审
| 申请号： | 201510810145.2 | 申请日： | 2015-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN105441910A | 公开（公告）日： | 2016-03-30 |
| 发明（设计）人： | 许壮;孔祥东;韩立;夏洋;张思敏;桂漓江 | 申请（专利权）人： | 中国科学院电工研究所 |
| 主分类号： | C23C16/56 | 分类号： | C23C16/56;C30B33/04 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人： | 关玲 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种电子束退火提高氧化锌薄膜电学性能的方法，该方法采用电子束在真空中对沉积在蓝宝石衬底上的氧化锌前驱膜进行退火。通过原子层沉积(ALD)法得到所述的氧化锌薄膜前驱膜，在十秒量级的时间内对前驱膜中的氧化锌小晶粒退火加热，使薄膜内的氧化锌重结晶。退火后生成的氧化锌薄膜的载流子浓度和载流子迁移率得以提高，载流子浓度和载流子迁移率分别高于1×1019/cm2和60cm2/Vs。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电子束 退火 提高 氧化锌 薄膜 电学 性能 方法 | ||
【主权项】：
一种电子束退火提高氧化锌薄膜电学性能的方法，其特征在于：所述的方法为：在电子束加工设备的真空样品室内，采用电子束对蓝宝石衬底上的氧化锌前驱膜进行退火处理，在十秒量级的退火时间内使所述的氧化锌前驱膜中的氧化锌小晶粒重结晶，生成具有载流子浓度为1.27×1019/cm3‑1.22×1020/cm3和载流子迁移率为33.17cm2/Vs‑64.89cm2/Vs的氧化锌薄膜；所述的氧化锌前驱膜为采用原子层沉积法(ALD)制备而成。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
