[发明专利]基板处理装置有效
| 申请号： | 201510810502.5 | 申请日： | 2015-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN105785605B | 公开（公告）日： | 2019-05-03 |
| 发明（设计）人： | 西部幸伸;矶明典 | 申请（专利权）人： | 芝浦机械电子株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/13 | 分类号： | G02F1/13 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 房永峰 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种基板处理装置，能够防止气泡的影响并且通过处理液良好地进行处理。实施方式的基板清洗装置(100)(基板处理装置的一个例子)从喷淋喷嘴(11)对由搬送机构(13)搬送的基板(W)供给清洗液(L)并进行清洗处理。第一回收配管(14)从清洗槽(10)的底部将在清洗处理使用后的清洗液(L)回收到罐(T)。第二回收配管(15)将在清洗工序中产生的气泡回收到罐(T)。在第二回收配管(15)具备强制地回收气泡的吸气器(16)。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 | ||
【主权项】：
1.一种基板处理装置，通过对由搬送机构搬送的基板供给处理液来处理上述基板，其特征在于，具有：处理槽；处理液供给机构，在上述处理槽中对由上述搬送机构搬送的上述基板供给上述处理液；罐，设置于上述处理槽的下方，贮存有上述处理液；第一回收配管，连接上述处理槽的底部与上述罐；吸入部，设置于上述处理槽中的比由上述搬送机构搬送的上述基板的背面更靠下方的区域，吸引残留在上述处理槽的气泡；第二回收配管，连接上述吸入部与上述罐；以及减压机构，设置于上述第二回收配管，使上述第二回收配管的上述吸入部侧成为负压状态，上述第二回收配管中的与上述吸入部侧相反一侧的端部设置于比贮存于上述罐的上述处理液的液面低的位置。
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