[发明专利]一种CZTSSe薄膜太阳电池吸收层的制备方法有效
申请号: | 201510810743.X | 申请日: | 2015-11-20 |
公开(公告)号: | CN105470113B | 公开(公告)日: | 2018-07-10 |
发明(设计)人: | 杨亦桐;王赫;张超;邓朝文;杨立;徐睿;赵彦民;乔在祥 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第十八研究所 |
主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02;H01L31/032;H01L31/18 |
代理公司: | 天津市鼎和专利商标代理有限公司 12101 | 代理人: | 李凤 |
地址: | 300384 天津*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明公开了一种CZTSSe薄膜太阳电池吸收层的制备方法,该制备方法分两步进行,使用Cu、ZnS、Sn、Se作为蒸发原料;第一步共蒸发Cu、Sn、Se,首先形成Cu2SnSe3三元相,该结构易于生成且不易分解,生成后能够有效抑制含Sn化合物的形成和再蒸发,进而减少表面孔隙的生成;第二步共蒸发ZnS、Sn、Se原料,直至各元素成分比例达到制备CZTSSe太阳电池吸收层所需的近化学计量比要求,ZnS与Cu2SnSe3化合形成锌黄锡矿结构的CZTSSe相,由于沉积到衬底上的含Zn化合物呈液相状态,易于填充到已形成的孔隙当中,诱导各元素在空隙位置进行化合反应从而有效地减少孔隙,改善薄膜表面结晶质量。 | ||
搜索关键词: | 制备 吸收层 薄膜太阳电池 共蒸发 近化学计量比 有效地减少 薄膜表面 表面孔隙 化合反应 空隙位置 液相状态 有效抑制 蒸发原料 锡矿 衬底 锌黄 沉积 化合 填充 蒸发 诱导 分解 | ||
【主权项】:
1.一种CZTSSe薄膜太阳电池吸收层的制备方法,其特征在于:包括如下步骤:步骤一、将镀Mo衬底放置在共蒸发设备腔室的可旋转样品架内;镀Mo衬底的上方置有衬底加热装置;将Cu、ZnS、Sn、Se蒸发源均匀分布在蒸发腔室下方,蒸发源内部安装有用于监测蒸发温度的热电偶,镀Mo衬底与Cu、ZnS、Sn、Se蒸发源之间均置有蒸发源挡板;步骤二、通过真空泵将蒸发腔室抽真空至3×10‑4Pa,将镀Mo衬底加热至500℃,同时将各蒸发源加热,其中:Cu加热后的温度范围是1120℃~1180℃、Sn加热后的温度范围是1100℃~1150℃、Se加热后的温度范围是200℃~250℃,ZnS升温至300℃进行预热;步骤三、开启样品架匀速旋转功能,转速设置为每分钟40~60转,待各蒸发源与镀Mo衬底温度稳定后打开Cu、Sn、Se的蒸发源挡板,在Mo背电极上共蒸发Cu、Sn、Se材料45min;步骤四、保持镀Mo衬底温度500℃,关闭Cu蒸发源挡板,停止Cu蒸发源加热,将ZnS蒸发源升温至蒸发温度700℃~780℃,共蒸发ZnS、Sn、Se材料30min,形成锌黄锡矿结构CZTSSe薄膜;步骤五、关闭ZnS、Sn蒸发源挡板,停止ZnS、Sn蒸发源加热,镀Mo衬底在Se气氛下以5℃/min的速率降温,直至镀Mo衬底温度低于350℃后关闭Se的蒸发源挡板,停止Se蒸发源加热,停止镀Mo衬底旋转,待镀Mo衬底冷却后,CZTSSe薄膜太阳电池吸收层制备完成。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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