[发明专利]一种增大化学激光粒子数反转的装置及其操作方法有效

专利信息
申请号: 201510812304.2 申请日: 2015-11-20
公开(公告)号: CN106785879B 公开(公告)日: 2018-12-25
发明(设计)人: 汪涛;肖春雷;孙志刚;张东辉;杨学明 申请(专利权)人: 中国科学院大连化学物理研究所
主分类号: H01S3/22 分类号: H01S3/22;H01S3/101
代理公司: 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 代理人: 马驰
地址: 116023 *** 国省代码: 辽宁;21
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种增大化学激光粒子数反转的装置及其操作方法。该方法利用一束连续波红外激光作为诱导光耦合进光腔,将氟化氢化学激光体系中的振动量子数为v=1的特定转动量子态诱导到振动数v=0的转动量子态上,以增大振动量子数v=2上特定转动态与振动量子数v=1上的特定转动态之间的粒子数反转,以增强激光输出能量。此方法原则上也可运用于其他化学激光体系。
搜索关键词: 一种 增大 化学 激光 粒子 反转 装置 及其 操作方法
【主权项】:
1.一种增大化学激光粒子数反转的装置,其特征在于:装置的光路系统中包括:可调谐连续波光源(1),连续波诱导激光(2),光电调制器(3),偏振反射棱镜(4),四分之一波片(5),光腔后端镜(6),光腔(7),光腔外壁(8),输出耦合镜(9),输出光(10),闭环控制系统(11),光电探测器(12),后端镜压电陶瓷(13)和压力恢复装置接口(14);可调谐连续波光源(1),光电调制器(3),偏振反射棱镜(4),四分之一波片(5),后端镜压电陶瓷(13),光腔后端镜(6),光腔(7),输出耦合镜(9)依次连接,光腔外壁(8)包围在光腔(7)外;光电探测器(12)连接偏振反射棱镜(4);闭环控制系统(11)连接可调谐连续波光源(1),光电调制器(3),光电探测器(12);光腔后端镜(6)和压力恢复装置接口(14)在光腔外壁(8)上;可调谐连续波光源(1)为能产生HF/DF化学激光范围内(2.6~4.0μm)连续可调谐的连续波激光,用于将较低振动能级上的HF/DF分子诱导到更低振动能级上;连续波诱导激光(2)用于将较低振动能级上的HF/DF分子诱导到更低振动能级上,它的波长与HF分子自发辐射向下跃迁相匹配;光电调制器(3)用于改变连续波诱导激光(2)的相位和频率用于将诱导激光耦合进化学激光光腔(7);偏振反射棱镜(4)可以完全透过P光而完全反射S光;四分之一波片(5)用于改变激光的偏振,其快轴与线偏振的连续波诱导激光(2)成45°角;光腔后端镜(6)为平凹镜,弧度能满足实现稳定腔,对HF/DF化学激光范围(2.6~4.0μm)高度反射(反射率>99.9%);光腔(7)为由光腔后端镜(6)和输出耦合镜(9)组成的稳定腔;光腔外壁(8)为由金属组成的腔体,上端连接喷嘴,下端连接压力恢复装置;输出耦合镜(9)为平凹镜,弧度能满足实现稳定腔,对HF/DF化学激光范围(2.6~4.0μm)高度反射(反射率>99%),其反射率小于光腔后端镜(6);输出光(10)为最终由光腔输出的化学激光;闭环控制系统(11)为由信号发生器,中央电脑,数据采集卡组成的系统,与可调谐连续波光源(1)、光电调制器(3)、光电探测器(12)、后端镜压电陶瓷(13)相连接;根据从光电探测器(12)探测到的反射光信号来调节后端镜压电陶瓷(13)上的电压从而改变光腔(7)的长度或者直接改变可调谐连续波光源(1)的输出波长来使连续波诱导激光(2)可以耦合进光腔(7);光电探测器(12)为对HF/DF化学激光范围内(2.6~4.0μm)可响应的光电探测器,将光强信号转为电压值;后端镜压电陶瓷(13)为用于装载光腔后端镜(6)的装置,可以根据输入电压来改变后端镜压电陶瓷(13)长短,从而控制光腔后端镜(6)与输出耦合镜(9)之间的距离来改变光腔(7)的长度;压力恢复装置接口(14)用于与压力恢复装置相连接,将使用完的H2,F,He等气体抽出。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院大连化学物理研究所,未经中国科学院大连化学物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510812304.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top