[发明专利]弱光纤光栅法布里-珀罗腔传感阵列在线制备装置及方法有效

专利信息
申请号: 201510814779.5 申请日: 2015-11-20
公开(公告)号: CN105259735B 公开(公告)日: 2020-09-29
发明(设计)人: 郭会勇;周次明;李小甫;余少华;余海湖 申请(专利权)人: 武汉烽理光电技术有限公司
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;G02B6/02
代理公司: 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 代理人: 许美红
地址: 430079 湖北省*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种弱光纤光栅法布里‑珀罗腔传感阵列在线制备装置及方法,该装置包括一维平移台和相位掩模板阵列,一维平移台上设置有用于固定和调节相位掩模板阵列的可移动夹具;相位掩模板阵列的入射面上固定设置有带有多个狭缝的FP掩模板,固定的激光束辐射在狭缝后,在相位掩模干涉区上形成光斑区,并透过相位掩模干涉区辐射在光纤上;夹具沿一维平移台移动,并带动相位掩模板阵列和FP掩模板移动,使激光束辐射到不同的狭缝和相位掩模干涉区上。本发明能够实现不同光栅长度、不同腔长的光栅的制备,且装置结构简单,控制实施容易,FP掩模板切换速度快,提高了工作效率。
搜索关键词: 弱光 光栅 法布里 珀罗腔 传感 阵列 在线 制备 装置 方法
【主权项】:
一种弱光纤光栅法布里‑珀罗腔传感阵列在线制备装置,其特征在于,包括一维平移台(1)和相位掩模板阵列(3),所述一维平移台(1)上设置有用于固定和调节所述相位掩模板阵列(3)的可移动夹具(2);所述相位掩模板阵列(3)包括基片(301)和所述基片(301)上设置的多个形状、大小均相同的相位掩模干涉区(302),所述相位掩模干涉区(302)密集等间距的排列在所述基片(301)中;所述相位掩模板阵列(3)的入射面上固定设置有带有多个狭缝(501)的FP掩模板(5),固定的激光束(4)辐射在所述狭缝(501)后,在所述相位掩模干涉区(302)上形成光斑区,并透过所述相位掩模干涉区(302)辐射在光纤(6)上;所述夹具(2)沿所述一维平移台(1)移动,并带动所述相位掩模板阵列(3)和所述FP掩模板(5)移动,使激光束(4)辐射到不同的所述狭缝(501)和所述相位掩模干涉区(302)上。
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