[发明专利]二维孔洞结构二氧化锰纳米片的制备方法有效

专利信息
申请号: 201510822459.4 申请日: 2015-11-24
公开(公告)号: CN105314684B 公开(公告)日: 2016-11-16
发明(设计)人: 刘宗怀;张改妮 申请(专利权)人: 陕西师范大学
主分类号: C01G45/02 分类号: C01G45/02;B82Y40/00
代理公司: 西安永生专利代理有限责任公司 61201 代理人: 高雪霞
地址: 710062 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种二维孔洞结构二氧化锰纳米片的制备方法,属于半导体材料制备技术领域。该方法是将层状二氧化锰纳米层分散液与六水合氯化铁、过量铜线在酸性条件下常温反应制备而成。本发明反应条件温和、生产成本低、无需添加模板剂及热分解处理,二氧化锰纳米片上形成的孔洞的大小为4~10nm,且所得产物的比表面积为170~300m2·g‑1,在电流密度为0.25A·g‑1时,其质量比容量为180~310F·g‑1,有望作为超级电容器用电极材料。
搜索关键词: 二维 孔洞 结构 二氧化锰 纳米 制备 方法
【主权项】:
一种二维孔洞结构二氧化锰纳米片的制备方法,其特征在于:将六水合氯化铁溶解于盐酸水溶液中,然后向其中加入层状二氧化锰纳米层分散液和铜线,在常温条件下搅拌3~9小时,其中二氧化锰与铜线、六水合氯化铁、盐酸的摩尔比为1:0.50~1.50:0.10~0.40:5~10,取出铜线,将生成物用去离子水抽滤洗涤后用盐酸水溶液处理,然后用去离子水洗至滤液为中性,冷冻干燥,制备成二维孔洞结构二氧化锰纳米片。
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