[发明专利]发光二极管设备

摘要

发光二极管设备。一种发光二极管设备包括：支承基板；以及发光二极管阵列，该发光二极管阵列由所述支承基板上二维地布置的多个发光二极管形成，构成所述发光二极管阵列中具有最高亮度的光分布中心，其中，所述多个发光二极管被划分为多个控制单元，所述多个控制单元的驱动电流能够单独地控制，其中，所述多个控制单元包括多个复合控制单元，在每个复合控制单元中，多个发光二极管串联连接，并且其中，在每个复合控制单元中的多个发光二极管当中，离所述光分布中心较远的发光二极管的发光面积比离所述光分布中心较近的发光二极管的发光面积大。

主权项

1.一种发光二极管设备，该发光二极管设备包括：支承基板；以及发光二极管阵列，该发光二极管阵列由所述支承基板上二维地布置的多个发光二极管形成，所述多个发光二极管构成所述发光二极管阵列中具有最高亮度的光分布中心，其中，所述多个发光二极管被划分为多个控制单元，所述多个控制单元的驱动电流能够被单独地控制，其中，所述多个控制单元包括多个复合控制单元，在每个所述复合控制单元中，多个发光二极管串联连接，并且其中，在每个所述复合控制单元中的所述多个发光二极管当中，离所述光分布中心较远的发光二极管的发光面积比离所述光分布中心较近的发光二极管的发光面积大，其中，所述光分布中心在第一方向上延伸，并且每个所述复合控制单元中的串联连接的所述多个发光二极管在与所述光分布中心的延伸方向交叉的方向上排列，其中，所述多个发光二极管被布置为具有水平方向上的行和铅直方向上的列的矩阵形状，并且所述列在水平方向上具有相同的宽度，并且其中，每个所述列具有多个复合控制单元，并且离所述光分布中心较远的复合控制单元包括发光面积比离所述光分布中心较近的复合控制单元中的发光二极管的发光面积小的发光二极管。