[发明专利]气体分配器及使用该气体分配器的沉积设备

摘要

提供了一种在沉积设备中使用的气体分配器。该气体分配器包括喷头，喷头包括多个孔；以及掩模层，形成在喷头的表面上，其中孔穿透穿过掩模层。还公开了使用气体分配器的沉积设备。

主权项

1.一种沉积设备，包括：反应器室；保持架，设置在所述反应器室中用于保持衬底；喷头，设置在所述反应器室中并与所述保持架相对，所述喷头包括多个孔用于允许反应气体进入所述反应器室；以及掩模层，形成在所述喷头的表面上用于防止所述喷头在等离子体清洁工艺期间被蚀刻，其中，在所述喷头的孔中的所述掩模层比在所述喷头的顶面和底面上的所述掩模层更薄。