[发明专利]同轴抛物面的反射式纹影仪光学系统在审
| 申请号： | 201510827454.0 | 申请日： | 2015-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN105424312A | 公开（公告）日： | 2016-03-23 |
| 发明（设计）人： | 何锋赟;胡玥;曹艳波 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | G01M9/06 | 分类号： | G01M9/06;G01N21/45 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 130000 吉林省长春*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种同轴抛物面的反射式纹影仪光学系统，该系统包括沿光路依次设置的光源、狭缝、准直反射镜、聚焦反射镜、刀口及探测器，待测流场位于准直反射镜与聚焦反射镜之间，光源发射出的光线经狭缝匀光滤光后照射至准直反射镜，经准直反射镜后变换为平行光线，光线经过待测流场后传播至聚焦反射镜汇聚，汇聚后的光线经过刀口后在探测器成像，其中，准直反射镜和聚焦反射镜采用旋转对称的同轴抛物面的面形结构。本发明通过将准直反射镜和聚焦反射镜设为同轴抛物面的面形结构，通过对反射镜的面形进行改进，提高了纹影仪整体的均匀性及灵敏度，且无需采用离轴抛物镜的面形，降低了加工难度与成本。 | ||
| 搜索关键词： | 同轴 抛物面 反射 式纹影仪 光学系统 | ||
【主权项】：
一种同轴抛物面的反射式纹影仪光学系统，包括沿光路依次设置的光源（1）、狭缝（2）、准直反射镜（3）、聚焦反射镜（4）、刀口（5）及探测器（6），待测流场（7）位于所述准直反射镜（3）与所述聚焦反射镜（4）之间，其特征在于，所述光源（1）发射出的光线经所述狭缝（2）匀光滤光后照射至所述准直反射镜（3），经所述准直反射镜（3）后变换为平行光线，光线经过所述待测流场（7）受其扰动影响后传播至所述聚焦反射镜（4）汇聚，汇聚后的光线经过所述刀口（5）后在所述探测器（6）成像，其中，所述准直反射镜（3）和所述聚焦反射镜（4）采用同轴抛物面的面形结构。
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