[发明专利]一种连续型非晶硅薄膜处理系统及方法

摘要

本发明涉及一种半导体制作技术领域，尤其涉及一种连续型非晶硅薄膜处理系统，包括：激光模块，第二光学镜片，第一光学镜片，激光模块发射激光光束；第二光学镜片，设置于非晶硅薄膜的上方，第一光学镜片，临近第二光学镜片设置于非晶硅薄膜的上方；通过第二光学镜片对非晶硅薄膜表面进行预处理，该预处理不会使得非晶硅薄膜表面晶化，但是会在非多晶薄膜表面以下0.25μm深度造成损失。再通过第一光学镜片进行晶化处理，第一光学镜片的激光光束能经过预处理的非多晶薄膜进行均匀晶化处理。

主权项

一种连续型非晶硅薄膜处理系统，应用于对非晶硅薄膜的晶化处理中，其特征在于，包括：激光模块，发射激光光束；第二光学镜片，设置于所述非晶硅薄膜的上方，且所述激光模块发射的部分激光光束通过所述第二光学镜片透射至所述非晶硅薄膜的表面，以对所述非晶硅薄膜进行预处理工艺；以及第一光学镜片，临近所述第二光学镜片设置于所述非晶硅薄膜的上方；其中所述第二光学镜片还将剩余的所述激光光束反射至所述第一光学镜片，且所述第一光学镜片将所述剩余的所述激光光束全反射至经所述预处理工艺处理后的所述非晶硅薄膜的表面，以将所述非晶硅薄膜转化为多晶硅薄膜。