[发明专利]柔性衬底硅基薄膜太阳能电池周边激光绝缘制备方法在审

专利信息
申请号: 201510839835.0 申请日: 2015-11-27
公开(公告)号: CN106024969A 公开(公告)日: 2016-10-12
发明(设计)人: 马宁华;陈亮;周丽华;王小顺;蒋帅 申请(专利权)人: 上海空间电源研究所
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 代理人: 张妍;张静洁
地址: 200245 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种柔性衬底硅基薄膜太阳能电池周边激光绝缘制备方法,用于制备柔性衬底硅基薄膜太阳能电池,该柔性衬底硅基薄膜太阳能电池包含柔性衬底、底电极膜层、NIP非晶硅吸收层和前电极膜层,在成卷制备柔性衬底硅基薄膜太阳能电池的过程中,采用激光正面入射,刻蚀太阳能电池结构中的其中一个电极膜层,形成若干激光刻蚀槽,在完成柔性衬底硅基薄膜太阳能电池卷材的制备后,在激光刻蚀槽的外侧对柔性衬底硅基薄膜太阳能电池卷材进行分切,获得单体太阳能电池片。本发明不影响电池吸收层性能,可以有效避免分切电池片上下电极短路,提高了电池的电绝缘性、耐候性和寿命。
搜索关键词: 柔性 衬底 薄膜 太阳能电池 周边 激光 绝缘 制备 方法
【主权项】:
一种柔性衬底硅基薄膜太阳能电池周边激光绝缘制备方法,用于制备柔性衬底硅基薄膜太阳能电池,该柔性衬底硅基薄膜太阳能电池包含柔性衬底、底电极膜层、NIP非晶硅吸收层和前电极膜层,其特征在于,在成卷制备柔性衬底硅基薄膜太阳能电池的过程中,采用激光正面入射,刻蚀太阳能电池结构中的其中一个电极膜层,形成若干激光刻蚀槽,在完成柔性衬底硅基薄膜太阳能电池卷材的制备后,在激光刻蚀槽的外侧对柔性衬底硅基薄膜太阳能电池卷材进行分切,获得单体太阳能电池片。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海空间电源研究所,未经上海空间电源研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510839835.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top