[发明专利]形成无反射的涂层剂及其生产方法在审
| 申请号： | 201510847247.1 | 申请日： | 2015-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN105255360A | 公开（公告）日： | 2016-01-20 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 孙典学 |
| 主分类号： | C09D183/04 | 分类号： | C09D183/04;C09D7/12;C03C17/30;C08J7/04 |
| 代理公司： | 青岛申达知识产权代理有限公司 37243 | 代理人： | 蒋遥明 |
| 地址： | 266000 山东省青岛*** | 国省代码： | 山东;37 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种涂覆于玻璃和透明塑料材料商的涂层剂，用以消除反射，它由聚硅氧烷漆和热生硅胶和疏化热生硅胶的混合物组成。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 反射 涂层 及其 生产 方法 | ||
【主权项】：
一种涂覆于玻璃及塑料材料的透明表面能以形成无反射层、特别是在显示屏表面形成无反射层的涂层剂，由热硬性添和以硅胶为基的磨碎的颜料组成，其特征在于：采用聚硅氧烷作为漆，热生胶和疏水化热生硅胶的混合物作用预料。
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C09 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09D 涂料组合物，例如色漆、清漆或天然漆；填充浆料；化学涂料或油墨的去除剂；油墨；改正液；木材着色剂；用于着色或印刷的浆料或固体；原料为此的应用
C09D183-00 基于由只在主链中形成含硅的、有或没有硫、氮、氧或碳键反应得到的高分子化合物的涂料组合物；基于此种聚合物衍生物的涂料组合物
C09D183-02 .聚硅酸酯
C09D183-04 .聚硅氧烷
C09D183-10 .含有聚硅氧烷链区的嵌段或接枝共聚物
C09D183-14 .其中至少两个，但不是所有的硅原子与氧以外的原子连接
C09D183-16 .其中所有的硅原子与氧以外的原子连接
C09D 涂料组合物，例如色漆、清漆或天然漆；填充浆料；化学涂料或油墨的去除剂；油墨；改正液；木材着色剂；用于着色或印刷的浆料或固体；原料为此的应用
C09D183-00 基于由只在主链中形成含硅的、有或没有硫、氮、氧或碳键反应得到的高分子化合物的涂料组合物；基于此种聚合物衍生物的涂料组合物
C09D183-02 .聚硅酸酯
C09D183-04 .聚硅氧烷
C09D183-10 .含有聚硅氧烷链区的嵌段或接枝共聚物
C09D183-14 .其中至少两个，但不是所有的硅原子与氧以外的原子连接
C09D183-16 .其中所有的硅原子与氧以外的原子连接
