[发明专利]相移空白掩模及光掩模

摘要

本发明公开了一种用于制造光掩模的空白掩模，其可实现32nm级以下，优选地，14nm级以下，更优选地，10nm级以下的微细图案。为此，在透明基板上提供相移膜、光屏蔽膜、刻蚀阻止膜和硬膜，所述光屏蔽膜具有成分不同的两层或多层的多层结构，其中一种必须包含氧(O)，必须包含氧(O)的光屏蔽层占光屏蔽膜总厚度的50％‑100％，所述相移膜具有10％‑50％的透射率。

主权项

具有位于透明基板上的相移膜和光屏蔽膜的相移空白掩模，其特征在于，所述光屏蔽膜包括多层膜，所述多层膜具有两层或多层，包含氧(O)和氮(N)中至少之一，所述膜的至少之一必须包含氧(O)，所述必须包含氧(O)的膜占所述光屏蔽膜总厚度的50％‑95％。