[发明专利]一种提高喷嘴喷注均匀性的装置在审

专利信息
申请号: 201510850037.8 申请日: 2015-11-27
公开(公告)号: CN105508111A 公开(公告)日: 2016-04-20
发明(设计)人: 王仙;丁兆波;张晋博;赵世红;许晓勇;田原;刘红珍;姬威信;潘刚;于槟恺;王召;刘中祥;陶瑞峰;郑孟伟 申请(专利权)人: 北京航天动力研究所
主分类号: F02M61/18 分类号: F02M61/18
代理公司: 核工业专利中心 11007 代理人: 莫丹
地址: 100076 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种提高喷嘴喷注均匀性的装置,其包括相连接的氧化剂喷嘴和燃料喷嘴,氧化剂喷嘴和燃料喷嘴构成一个双组元喷注单元;其中,氧化剂喷嘴的入口处内嵌氧化剂喷嘴入口节流孔,氧化剂喷嘴的出口设置于燃料喷嘴的内部;所述的燃料喷嘴径向设置若干排径向进口孔,燃料喷嘴轴向也设置若干排小孔,燃料喷嘴的下端设置环形凹腔;工作时氧化剂从氧化剂喷嘴的入口进入氧化剂喷嘴入口节流孔,燃料从燃料喷嘴的径向进口孔进入后经过初次均流,经过环形凹腔进行二次均流,最终从燃料喷嘴出口处喷出,可以获得沿周向高度均匀的分布。本发明提高了燃料的喷注均匀性,增强了燃料和氧化剂间的掺混和燃烧效果,进而提高推力室燃烧效率。
搜索关键词: 一种 提高 喷嘴 均匀 装置
【主权项】:
一种提高喷嘴喷注均匀性的装置,其特征在于:该装置包括相连接的氧化剂喷嘴(1)和燃料喷嘴(2),氧化剂喷嘴(1)和燃料喷嘴(2)构成一个双组元喷注单元;其中,氧化剂喷嘴(1)的入口处内嵌氧化剂喷嘴入口节流孔(5),氧化剂喷嘴(1)的出口设置于燃料喷嘴(2)的内部;所述的燃料喷嘴(2)径向设置若干排径向进口孔(7),燃料喷嘴(2)轴向也设置若干排小孔,燃料喷嘴(2)的下端设置环形凹腔(8);工作时氧化剂从氧化剂喷嘴(1)的入口进入氧化剂喷嘴入口节流孔(5),燃料从燃料喷嘴(2)的径向进口孔(7)进入后经过初次均流,经过环形凹腔(8)进行二次均流,最终从燃料喷嘴出口(9)处喷出,可以获得沿周向高度均匀的分布。
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