[发明专利]基于模型的规则表产生有效
| 申请号： | 201510853068.9 | 申请日： | 2015-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN106469234B | 公开（公告）日： | 2021-01-12 |
| 发明（设计）人： | 余瑞晋;周硕彦 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/392 | 分类号： | G06F30/392;G06F30/398 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 路勇 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明涉及基于模型的规则表产生。具体的，本发明提供一种用于制造半导体装置的方法，其包含例如从设计室接收集成电路IC布局图案。在一些实施例中，利用过程模拟模型以通过反向光刻技术ILT过程产生自由形式布局图案。所述过程模拟模型经配置以模拟用于所述IC布局图案的处理条件。在各种实施例中，所述自由形式布局图案与所述IC布局图案相关联。在一些实例中，产生简化布局图案，其中所述简化布局图案是所述自由形式布局图案的近似。之后，基于所述简化布局图案可以计算亚分辨率辅助特征SRAF规则且可以产生SRAF规则表。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 模型 规则 产生 | ||
【主权项】：
一种半导体装置制造的方法，其包括：接收集成电路IC布局图案；利用经配置以模拟用于所述IC布局图案的处理条件的过程模拟模型，通过基于模型MB的掩模校正过程产生第二布局图案，其中所述第二布局图案与所述IC布局图案相关联；产生第三布局图案，所述第三布局图案是所述第二布局图案的近似；以及基于所述第三布局图案计算亚分辨率辅助特征SRAF规则。
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