[发明专利]磁场测量方法以及磁场测量装置有效
| 申请号： | 201510854835.8 | 申请日： | 2015-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN105652223B | 公开（公告）日： | 2020-06-19 |
| 发明（设计）人： | 长坂公夫;宫坂光敏;高桥智 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | A61B5/055 | 分类号： | A61B5/055 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 舒艳君;李洋 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明提供磁场测量方法。在光泵浦式的磁测量中，能够在探测光为一个方向的同时，测量多个方向的磁场。在磁场测量装置(1)中，光源(18)针对气室(12)，向Z轴方向照射兼为泵浦光和探测光的直线偏振光，磁场产生器(8)针对气室(12)，分别向X、Y轴方向施加相同周期并且相位不同的交变磁场。运算控制部(30)使用交变磁场的X、Y轴方向成分Ax、Ay、以及相当于磁传感器(10)的测量值W |
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| 搜索关键词： | 磁场 测量方法 以及 测量 装置 | ||
【主权项】：
一种磁场测量方法，其特征在于，是磁场测量装置用于测量所述测量区域的磁场的磁场测量方法，所述磁场测量装置，其第一方向、第二方向、以及第三方向相互正交，且具备：光源，射出光；介质，所述光沿所述第三方向通过，根据测量区域的磁场而使光学特性变化；光检测器，检测所述光学特性；第一磁场产生器，将所述第一方向的磁场施加给所述介质；以及第二磁场产生器，将所述第二方向的磁场施加给所述介质，磁场测量方法包括：使所述第一磁场产生器产生第一交变磁场；使所述第二磁场产生器产生与所述第一交变磁场相同周期且与所述第一交变磁场的相位差为δ的第二交变磁场；以及使用所述光检测器的检测结果、所述第一交变磁场以及所述第二交变磁场，来计算所述测量区域的磁场。
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