[发明专利]边缘曝光装置及方法、基板处理装置有效
| 申请号： | 201510855376.5 | 申请日： | 2015-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN105652602B | 公开（公告）日： | 2018-07-17 |
| 发明（设计）人： | 刘敏相;金炯拜 | 申请（专利权）人： | 细美事有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 吕琳;杨生平 |
| 地址： | 韩国忠青*** | 国省代码： | 韩国;KR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及边缘曝光装置及包括其的基板处理装置。根据本发明的一个实施例的边缘曝光装置包括支撑单元，其用于支撑基板；光照射单元，其包括用于同时对基板的四边进行光照射的光源。 | ||
| 搜索关键词： | 边缘曝光装置 基板处理装置 四边 光照射单元 支撑单元 支撑基板 对基板 光照射 光源 | ||
【主权项】：
1.一种边缘曝光装置，其对基板的边缘区域进行光照射来执行边缘曝光工艺，其包括：支撑单元，其用于支撑基板；光照射单元，其包括用于同时对基板的四边进行光照射的光源，其中，所述光照射单元包括：第一框架；第二框架，其与所述第一框架相邻；第三框架，其配置为与所述第二框架相邻且与所述第一框架平行；以及第四框架，其配置为与所述第一框架和所述第三框架相邻且与所述第二框架平行，所述第一框架、所述第二框架、所述第三框架以及所述第四框架分别配置有所述光源。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于细美事有限公司，未经细美事有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201510855376.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：适于接触式光刻机的分区域曝光装置
- 下一篇：氨酯化改性酚醛树脂的感光组合物
