[发明专利]一种测校装置及测校方法有效
| 申请号： | 201510856637.5 | 申请日： | 2015-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN106814547B | 公开（公告）日： | 2019-01-29 |
| 发明（设计）人： | 陈飞彪;秦璋;蓝科;唐平玉 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种测校装置及测校方法，该测校装置包括：照明组件，包括光源、照明镜头和空间光调制器，所述照明组件用于形成不同模式的照明光束；投影照明系统，用于将所述照明光束投射到工件的对准标记上；调焦调平功能系统，用于测量工件的离焦倾斜量并反馈至曝光系统的工件台；对准功能系统，用于对测量工件的水平位置偏移量并反馈至曝光系统的工件台；所述调焦调平功能系统与所述对准功能系统共用部分光路。本发明可以节省光刻机的调焦调平流程的时间，提高对准精度，并且对准过程和调焦调平过程之间的相互校准，可以提高整个的调焦调平和对准的测量精度，最终提高光刻机的曝光精度，提高曝光工艺的产率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 装置 校方 | ||
【主权项】：
1.一种测校装置，其特征在于，包括：照明组件，包括光源、照明镜头和空间光调制器，所述照明组件用于形成调焦调平通光模式和对准照明模式的照明光束；投影照明系统，用于将所述照明光束投射到工件的对准标记上；调焦调平功能系统，用于测量工件的离焦倾斜量并反馈至曝光系统的工件台；对准功能系统，用于测量工件的水平位置偏移量并反馈至曝光系统的工件台；所述调焦调平功能系统与所述对准功能系统共用部分光路，其中共用部分光路包括转向组件、透镜组和分束器件；工件上的反射光经所述转向组件和透镜组投射到分束器件，由分束器件将反射光分为两束。
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