[发明专利]化学增幅光阻材料、共聚物及微影方法有效
| 申请号： | 201510859835.7 | 申请日： | 2015-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN106168737B | 公开（公告）日： | 2020-04-28 |
| 发明（设计）人： | 郑雅玲;张庆裕 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种化学增幅光阻材料、共聚物及微影方法。敏感材料包含一共聚物，共聚物包括聚合物单元，聚合物单元包括：疏水单元；亲水单元，亲水单元包含酸产生剂；以及连接单元，连接单元接合于疏水单元与亲水单元之间，连接单元包含遇酸不稳定基团。当以此敏感材料作为光阻，在微影工艺期间的酸扩散会受到连接单元的抑制。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 增幅 材料 共聚物 方法 | ||
【主权项】：
一种共聚物，其特征在于，包含：一疏水单元；一亲水单元，该亲水单元包含一酸产生剂基团；以及一连接单元，该连接单元接合于该疏水单元及该亲水单元之间，该连接单元包含一遇酸不稳定基团。
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