[发明专利]一种对准系统及对准方法

摘要

本发明提出一种对准系统及对准方法，该对准系统包括：掩模版，提供投影曝光图案和对准标记；投影物镜焦面测量标记，设置于所述掩模版上；投影物镜，对掩模版上的曝光图案、标记成像到硅片方像方焦面；工件台，承载有同轴镜头、基准板和硅片，其中同轴镜头对对准标记、投影物镜焦面测量标记和调焦标记进行成像，基准板承载有调焦标记和参考标记，并提供水平向和垂向测量基准，硅片承载有硅片对准标记；调焦调平系统，对硅片表面调平，控制硅片上表面与硅片焦面重合；离轴对准系统，对硅片图案对准。本发明旨在为调焦调平、对准、焦面探测建立统一的测量基准，提高垂向、水平向测量分系统对温度变化等情况的适应能力。

主权项

1.一种对准系统，其特征在于，包括：掩模版，提供投影曝光图案和对准标记；投影物镜焦面测量标记，设置于所述掩模版上；投影物镜，对掩模版上的曝光图案、标记成像到硅片方像方焦面；工件台，承载有同轴镜头、基准板和硅片，并提供水平向和垂向的运动，其中所述同轴镜头对所述对准标记、投影物镜焦面测量标记和调焦标记进行成像，构成同轴成像系统，所述基准板承载有调焦标记和参考标记，提供水平向和垂向测量基准，所述硅片承载有硅片对准标记；调焦调平系统，对硅片表面调平，控制硅片上表面与硅片焦面重合；离轴对准系统，对硅片图案对准，其中，所述调焦标记为相移标记，所述相移标记的结构为在所述基准板的玻璃基底上设置一层不透光的标记和厚度为a、折射率为n的相移层，定义玻璃基底其他透过部分的相位为零，所述相移层与玻璃基底的相位差为π2，可知，相位差与相移层的厚度的关系为：π2＝2·π·a·〔n‑1〕λ，λ为同轴成像系统的主波长。